【摘 要】
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在不同温度衬底上射频磁控溅射沉积ZrO2-12wt%Y2O3薄膜进行了不同方式的退火后处理。其一为1000℃大气气氛下的热退火处理,其二为高真空渗氧条件下的电子束退火处理。退火前后的
【机 构】
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在不同温度衬底上射频磁控溅射沉积ZrO2-12wt%Y2O3薄膜进行了不同方式的退火后处理。其一为1000℃大气气氛下的热退火处理,其二为高真空渗氧条件下的电子束退火处理。退火前后的相结构和显微形貌的研究表明,退火前的沉积膜相组成与沉积过程中衬底温度有关,退火后的沉积膜相组成与退火方式有关,其形貌特征经不同形式退火显示出明显的差别。
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