【摘 要】
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通过将数字微反射镜（Digital Micro—mirror Device，DMD）输入阵列图形微缩干涉成像，激光干涉直写系统在光刻胶板上得到缩小的干涉光斑图形，像素特征尺寸3．5um，干涉条纹周期1um．控制刻
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通过将数字微反射镜（Digital Micro—mirror Device，DMD）输入阵列图形微缩干涉成像，激光干涉直写系统在光刻胶板上得到缩小的干涉光斑图形，像素特征尺寸3．5um，干涉条纹周期1um．控制刻蚀深度、干涉条纹取向和DMD输入图形的结构，系统能数字化完成2D／3D、3D光变图像、超微图形文字以及二元光学元件的制作，实现了超高分辨率图形与高效的干涉光刻．给出了实验结果．
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