【摘 要】
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室温下,以质量分数99.99%的氧化锌陶瓷靶为溅射源,利用射频磁控溅射技术在石英衬底上沉积氧化锌薄膜,通过X射线衍射仪、薄膜测厚仪、紫外-可见分光光度计、X射线荧光光谱仪进
【基金项目】
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湖南省教育厅普通高校教学改革研究基金资助项目(湘教通[2019]291号-579)
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室温下,以质量分数99.99%的氧化锌陶瓷靶为溅射源,利用射频磁控溅射技术在石英衬底上沉积氧化锌薄膜,通过X射线衍射仪、薄膜测厚仪、紫外-可见分光光度计、X射线荧光光谱仪进行测试和表征,研究了溅射功率(120~180 W,功率步长为20 W)对ZnO薄膜微结构及光学性能的影响。结果表明:所制得薄膜均在34.3°附近出现(002)面衍射峰,呈现c轴择优生长,为纤锌矿结构;随着功率的增加,薄膜折射率有不同程度的变化,波长范围为190~368 nm的紫外光区域平均透过率小于10%,可见光区域平均透过率
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