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用磁控溅射法制备工作波长约8.0 nm的Mo/B4C多层膜作为正入射短波长(λ＜10.0 nm)软X射线激光反射腔的反射镜.经X射线衍射仪和TEM检测,多层膜周期结构准确,热稳定性高.
8.0nm X射线激光反射镜Mo/B4C多层膜制备及其特性
【摘 要】
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用磁控溅射法制备工作波长约8.0 nm的Mo/B4C多层膜作为正入射短波长(λ＜10.0 nm)软X射线激光反射腔的反射镜.经X射线衍射仪和TEM检测,多层膜周期结构准确,热稳定性高.
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械研究所,大连铁道学院
【出 处】
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原子能科学技术
【发表日期】
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2004年期
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