【摘 要】
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以RhCl6^3-为模板,丙稀酰胺（AM）为功能单体,甲基丙烯酸乙二醇酯（EGDMA）为交联剂,采用分子印迹技术合成了一系列铑离子印迹聚合物（ⅡPs）;研究了聚合条件和聚合方法对ⅡPs吸附性能的
【机 构】
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云南大学化学科学与工程学院,昆明冶金研究院
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以RhCl6^3-为模板,丙稀酰胺（AM）为功能单体,甲基丙烯酸乙二醇酯（EGDMA）为交联剂,采用分子印迹技术合成了一系列铑离子印迹聚合物（ⅡPs）;研究了聚合条件和聚合方法对ⅡPs吸附性能的影响。结果发现,在模板、功能单体和交联剂的加入摩尔比为1：2：40时,用沉淀聚合法制备的铑离子印迹聚合物（ⅡP2）具有较高的吸附容量和最好的印迹效果。该印迹聚合物不仅可重复多次使用,而且在Rh（Ⅲ）与Pd（Ⅱ）、Pt（Ⅳ）、Ru（Ⅲ）、Ir（Ⅳ）、Cu（Ⅱ）、Ni（Ⅱ）及Fe（Ⅲ）之间的吸附选择性系数均在10以上,
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