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研究了利用液态源雾化化学沉积(LSMCD)法制备纳米(Pb,La)TiO3薄膜的工艺. XRD和SEM分析表明:沉积4次,采用RCA热处理,在Pt/Ti/SiO2/Si基板上成功制备出具有钙钛矿结构的、晶粒粒径约60nm、厚度约180nm的纳米颗粒PLT薄膜.该方法既可以较精确的控制薄膜的化学计量比及掺杂浓度,又可采用控制超声雾化沉积的时间和次数来有效的控制膜厚及晶粒的大小.该工艺的沉积速率约为3nm/min.