液态源雾化化学沉积相关论文
研究了利用液态源雾化化学沉积(LSMCD)法制备纳米(Pb,La)TiO3薄膜的工艺. XRD和SEM分析表明:沉积4次,采用RCA热处理,在Pt/Ti/SiO2/......
介绍了制备铁电薄膜的几种不同种类的方法.LSMCD技术是一种新型的制备铁电薄膜的技术.采用超声雾化产生微米级或亚微米级尺寸的气......
研究了在Pt/Ti/SiO2/Si基片上用液态源雾化化学沉积法制备镧钛酸铅[(Pb, La)TiO3,PLT]薄膜的工艺, 并分析了各种因素对其相结构的......
铁电薄膜由于具有压电、热释电、铁电效应,在制备工艺上还可以逐渐做到与半导体平面工艺兼容,目前已成为国际上新型功能材料研究的......
液态源雾化化学沉积（Liquid Source Misted Chemical Deposition,LSMCD）制膜法是一种新型的铁电薄膜制备工艺，它克服了甩胶工艺的缺点......
