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采用周期伏安技术，恒电位阶跃法和恒电流阶跃法研究了Ｃｒ（Ⅵ）对镍电沉淀的影响。研究表明，正常镀镍液中，Ｃｒ（Ⅵ）在电极上形成一种“吸附膜”抑制Ｍｉ（２＋）离子的还原，此效应随ｐＨ值降低而减弱，并在一定ｐＨ值下发生Ｎｉ（２＋）离子的沉积。
Cr（Ⅵ）对镍沉淀的影响
【摘 要】
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采用周期伏安技术，恒电位阶跃法和恒电流阶跃法研究了Ｃｒ（Ⅵ）对镍电沉淀的影响。研究表明，正常镀镍液中，Ｃｒ（Ⅵ）在电极上形成一种“吸附膜”抑制Ｍｉ（２＋）离子的还原，此效应随ｐＨ值降低而减弱，并在一定ｐＨ值
【出 处】
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南昌航空工业学院学报
【发表日期】
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1994年1期
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