脉冲激光沉积（La（0．2）Bi（0．8）FeO3）（0．8）-（NiFe2O4）（0．2）薄膜及其多铁性能研究

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ferer1019

【摘要】

：

采用脉冲激光沉积法,在（100）SrTiO3基底上,制备了（La（0.2）Bi（0.8）FeO3）（0.8）-（NiFe2O4）（0.2）（LBFO-NFO）多铁薄膜,通过X射线衍射仪和场发射扫描电子显微镜确定了LBFO-NFO多铁薄膜的显微结构,通

【作者】

：

李享成杨光戴能利陈爱平龙华姚凯伦陆培祥

【机构】

：

华中科技大学武汉光电国家实验室激光科学与技术研究部,华中科技大学物理系,武汉科技大学高温陶瓷与耐火材料湖北省重点实验室

【出处】

：

无机材料学报

【发表日期】

：

2008年5期

【关键词】

：

多铁薄膜外延生长脉冲激光沉积漏电流 multiferroic fihns epitaxial growth pulse laser depositio

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采用脉冲激光沉积法,在（100）SrTiO3基底上,制备了（La（0.2）Bi（0.8）FeO3）（0.8）-（NiFe2O4）（0.2）（LBFO-NFO）多铁薄膜,通过X射线衍射仪和场发射扫描电子显微镜确定了LBFO-NFO多铁薄膜的显微结构,通过标准铁电测试系统（RT-66A）和振动样品磁强计（VSM）分别测试了LBFO-NFO多铁薄膜的铁电性能和铁磁性能.研究发现：多铁薄膜中LBFO和NFO二相均沿（100）方向外延生长,晶粒尺寸在100～150nm之间;薄膜具有明显的电滞回线（P=7.6μC/c

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