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国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”11月29日通过验收.该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制.中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示,该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米.项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒.