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闭合场非平衡磁控溅射离子CrAlTiN镀层在PCB用微钻中的应用
闭合场非平衡磁控溅射离子CrAlTiN镀层在PCB用微钻中的应用
来源 :表面技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wmzxpl
【摘 要】
:
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在PCB微钻上进行复合金属镀层处理,通过与无镀层微钻进行钻削试验对比,结果表明:CrAlTiN镀层微钻使用寿命与无镀层微钻相比,寿命可提高3倍;具
【作 者】
:
种艳琳
蒋白灵
白力静
【机 构】
:
西安理工大学
【出 处】
:
表面技术
【发表日期】
:
2006年2期
【关键词】
:
闭合场
非平衡
磁控溅射
离子镀
CrAlTiN镀层
PCB微钻
寿命
耐磨性
Closed field Unbalance Magnetron sputtei
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采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在PCB微钻上进行复合金属镀层处理,通过与无镀层微钻进行钻削试验对比,结果表明:CrAlTiN镀层微钻使用寿命与无镀层微钻相比,寿命可提高3倍;具有纳米结构的高硬度镀层显著提高了微钻的耐磨性。
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