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期刊论文
GaAs研磨片化学腐蚀均匀性的分析
GaAs研磨片化学腐蚀均匀性的分析
来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:depewguy
【摘 要】
:
采用不同的化学腐蚀方法,探讨了不同体系成份、温度、腐蚀过程的吸收热对晶片均匀性的影响,提出了氨水系列,进行晶片化学腐蚀,晶片厚度均匀性11.47%,为下步工艺提供平整度较好的晶片。
【作 者】
:
郑红军
卜俊鹏
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所
【出 处】
:
功能材料与器件学报
【发表日期】
:
2000年4期
【关键词】
:
研磨片
化学腐蚀方法
晶片均匀性
砷化镓
Lapping wafer Chemical etching Uniformity in lapped wafer?
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采用不同的化学腐蚀方法,探讨了不同体系成份、温度、腐蚀过程的吸收热对晶片均匀性的影响,提出了氨水系列,进行晶片化学腐蚀,晶片厚度均匀性11.47%,为下步工艺提供平整度较好的晶片。
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