AlN缓冲层对提高硅基GaN薄膜质量的作用机理及其研究进展

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ynzhengda
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AlN作为中间层可以有效提高硅基GaN的晶体质量。本文对于AlN作为形核层和插入层提高GaN晶体质量的机理进行分析和总结,并给出AlN的最佳生长条件。
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