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AlN缓冲层对提高硅基GaN薄膜质量的作用机理及其研究进展
AlN缓冲层对提高硅基GaN薄膜质量的作用机理及其研究进展
来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ynzhengda
【摘 要】
:
AlN作为中间层可以有效提高硅基GaN的晶体质量。本文对于AlN作为形核层和插入层提高GaN晶体质量的机理进行分析和总结,并给出AlN的最佳生长条件。
【作 者】
:
王敬蕊
叶志镇
赵炳辉
朱丽萍
唐海平
【机 构】
:
浙江大学硅材料重点实验室
【出 处】
:
真空科学与技术学报
【发表日期】
:
2006年4期
【关键词】
:
Si基GaN
ALN
综述
应力
位错
GaN
AlN
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AlN作为中间层可以有效提高硅基GaN的晶体质量。本文对于AlN作为形核层和插入层提高GaN晶体质量的机理进行分析和总结,并给出AlN的最佳生长条件。
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