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期刊论文
解决漏电流问题已刻不容缓
解决漏电流问题已刻不容缓
来源 :电子设计应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:amyfun
【摘 要】
:
采用65nm制造LSI时,电流将难以控制地大量泄漏出来,这种警告之声越来越高.问题的是,这些电流并不是LSI工作所需的电流,即使在LSI不工作的情况下,也会出现漏电流.LSI工作频率
【作 者】
:
大石基之
【机 构】
:
《日经电子》记者
【出 处】
:
电子设计应用
【发表日期】
:
2004年9期
【关键词】
:
漏电流
半导体工艺
工作频率
微细化
制造
控制
警告
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采用65nm制造LSI时,电流将难以控制地大量泄漏出来,这种警告之声越来越高.问题的是,这些电流并不是LSI工作所需的电流,即使在LSI不工作的情况下,也会出现漏电流.LSI工作频率越高,这种漏电流就越大.随着半导体工艺的微细化发展,漏电流会更大(见图1).
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