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采用超声雾化喷涂法沉积得到ＳｎＯ２薄膜。通过改变掺杂量和选择合适的工艺条件可控制掺氟ＳｎＯ２薄膜的方块电阻，其最小方块电阻值达１０Ω／□。用５５０ｎｍ单色光测得其率为８５％￣９０％。
一种喷涂SnO2减反射薄膜的新工艺及材料研究
【摘 要】
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采用超声雾化喷涂法沉积得到ＳｎＯ２薄膜。通过改变掺杂量和选择合适的工艺条件可控制掺氟ＳｎＯ２薄膜的方块电阻，其最小方块电阻值达１０Ω／□。用５５０ｎｍ单色光测得其率为８５％￣９０％。
【机 构】
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上海交通大学太阳能研究所
【出 处】
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太阳能学报
【发表日期】
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2000年1期
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