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介绍了目前用于提高亚半微米投影光刻机成像分辨力，增大焦深的新技术及主要研究方向。以大数值孔径和短波长技术，倾斜照明技术，相移掩模技术，光瞳滤波技术，多焦面曝光技术以及表面成像技术的原理和现状作了较为详细的阐述，通过与现有技术及条件比较，提出了研制亚半微米光刻机应采用的技术途径。
提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术（Ⅰ）
【摘 要】
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介绍了目前用于提高亚半微米投影光刻机成像分辨力，增大焦深的新技术及主要研究方向。以大数值孔径和短波长技术，倾斜照明技术，相移掩模技术，光瞳滤波技术，多焦面曝光技术以及表面
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所
【出 处】
：
物理
【发表日期】
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1998年4期
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