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本文报道了一种新研制的无金属水溶性i线CEL及其成象特性。CEL的A、B、C参数分别为18μm~(-1),0.12μm~(-1)及0.09cm~2/mJ。使用CE......
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介绍用于亚半微米分步重复投影曝光机的PSD调焦调平、激光干涉调信调平、多点高度测量传感和单光路多点检测等逐场调焦调平技术,较详细......
综述了测量越过典型有源区形貌的多晶硅线宽偏差,采用光刻模拟程序计算,采用顶层和底层抗反射涂层与否,对从365mm曝光的0.40μm到193mm曝光的0.225μm范围抗......