【摘 要】
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国内采用脉冲电源进行PCVD沉积TiN膜，尚未见报道。本文主要介绍脉冲PCVD沉积TiN膜的若干特点，并与直流PCVD作了比较。试验表明脉冲PCVD能降低TiN的沉积温度．细化晶粒．减小膜层中
【机 构】
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铁道科学研究院金化所,铁道科学研究院金化所,铁道科学研究院金化所
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国内采用脉冲电源进行PCVD沉积TiN膜，尚未见报道。本文主要介绍脉冲PCVD沉积TiN膜的若干特点，并与直流PCVD作了比较。试验表明脉冲PCVD能降低TiN的沉积温度．细化晶粒．减小膜层中的氯含量，改善成膜质量，与直流PCVD相比．能进一步提高工模具寿命。
Domestic use of pulse power PCVD TiN film deposition has not been reported. This article mainly introduces some characteristics of pulsed PCVD deposited TiN film and compares it with DC PCVD. Experiments show that pulsed PCVD can reduce the TiN deposition temperature. Grain refinement. Reduce the chlorine content in the film, improve the film quality, compared with DC PCVD. Can further enhance the life of workers die.
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