【摘 要】
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In this paper, silica-on-silicon erbium-doped phosphosilicate glass film material was fabricated for optical waveguides by sol-gel method. Samples were characte
【出 处】
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Optoelectronics Letters
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In this paper, silica-on-silicon erbium-doped phosphosilicate glass film material was fabricated for optical waveguides by sol-gel method. Samples were characterized and analyzed. It is demonstrated that we have got well-distributed, good translucent, alterable thickness of film and glass state erbium-doped phosphosilicate films material for optical waveguides by sol-gel method.
In this paper, silica-on-silicon erbium-doped phosphosilicate glass film material was fabricated for optical waveguides by sol-gel method. Samples are characterized and analyzed. It is characterized that we have got well-distributed, good translucent, alterable thickness of film and glass state erbium-doped phosphosilicate films material for optical waveguides by sol-gel method.
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