化学溶液沉积法制备自取向BiFeO3多铁薄膜

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通过化学溶液沉积法在氧化铟锡(ITO)/导电玻璃上生长了BiFeO,多晶薄膜.利用x射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱分析仪(XPS)、磁性测量系统(MPMS)和铁电测试仪对样品的结构、形貌、元素价态、铁磁性和铁电性进行研究.结果表明,薄膜为自取向生长,具有良好的[101]生长取向和平整的表面.室温下,样品呈铁磁性,沿样品取向方向为易磁化轴方向.铁电测试结果表明,其饱和电极化强度达到51.3℃/cm2.
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