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本文指出光刻胶所记录到的是浮雕型相位光栅，经历了电铸、模压转移到ＰＥＴ薄膜上，在此过程中光栅刻蚀深度的转移是非线性的，即深度浅的方法，其最后结果将更浅，甚至丢失。由于散射物体散斑的光强分布是严重不均匀的，故光刻胶上记录下各散斑的光栅刻蚀深度也严重不均匀，经过电铸、模压后，进一步加重了这种不均匀性，使得模压片的衍射效率降低，解决的办法是尽可能地使各个散斑上的光栅刻蚀深度趋于均匀化。