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阐述了分步光刻机的发展方向和国内现状，就０．５μｍ分步光机的设计难点和所采用的关键技术作了进一步分析。提出了关键技术所采用的设计方案，并对影响、难度最大的工作台技术、自动对准技术、投影镜头技术等的设计原理进行了研究。还对系统的套 度进行了分析和测算。
0.05μm步进光刻机关键技术设计
【摘 要】
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阐述了分步光刻机的发展方向和国内现状，就０．５μｍ分步光机的设计难点和所采用的关键技术作了进一步分析。提出了关键技术所采用的设计方案，并对影响、难度最大的工作台技术、自动对
【机 构】
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信息产业部电子第四十五研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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1999年2期
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