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采用电子束蒸发法制备具有不同Co层厚度的Co/Ru多层膜。采用X射线衍射（XRD）、高分辨透射电镜（HRTEM）、扫描电镜（TEM）等对多层膜的微观结构进行观察与分析，研究多层膜微观结构对多层膜磁阻性能的影响，并探讨多层膜磁阻的产生机理。结果表明：Co层的厚度tCo对于薄膜的微观结构和磁阻性能有很大影响，当tCo≥0.8 nm时Co/Ru多层膜以层状方式连续生长，且tCo越大，薄膜结晶越完整，薄膜呈现负磁阻效应；当tCo=0.5 nm时，Co/Ru多层膜为岛状生长，Co/Ru界面的不对称性使得薄膜出现正磁