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本文对经反溅射处理的Ａｌ片，进行ＳＥＭ７剖面观察，发现了反溅射的再淀积现象，对再淀积现象做了对比实验，分析了再淀积的影响因素及其对电路的失效影响。
反溅射再淀积现象研究
【摘 要】
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本文对经反溅射处理的Ａｌ片，进行ＳＥＭ７剖面观察，发现了反溅射的再淀积现象，对再淀积现象做了对比实验，分析了再淀积的影响因素及其对电路的失效影响。
【机 构】
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华晶电子集团公司中央研究所
【出 处】
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微电子技术
【发表日期】
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1996年1期
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