阿霉素在钴离子注入修饰电极上的电化学行为及其应用

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阿霉素在0.1mol/L HAc-NaAc(pH 4.62)缓冲溶液中用注入钴的修饰玻碳电极为工作电极进行伏安测定,得到一良好的还原峰,E_p=-0.522V(vs.SCE).峰电流与阿霉素浓度在1.4×10~(-7)~1.4×10~(-6)mol/L和1.4×10~(-6)~5.6×10~(-5)mol/L范围内呈线性关系.检出限为5.0×10~(-8)mol/L.并用于尿样的测定,得到满意的结果.用线性扫描和循环伏安法研究了体系的电化学行为及电极反应机理.电极反应属准可逆过程.用AES和XPS等表面分析技术检测了注入电极表面的元素组成、价态和深度分布,对离子注入电极的催化性质进行探讨.
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