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采用射频等离子体方法处理聚3-己基噻吩(P3 HT)薄膜,使 P3 HT 原位形成由碳膜和 P3 HT 组成的双层异质结构型。采用场发射扫描电子显微镜、紫外可见光分光光度计和薄膜 X 射线衍射仪对产物进行形貌和结构的表征与分析。结果表明:经等离子体处理后,P3 HT 薄膜的表层出现明显的炭化现象,形成一层致密的碳纳米颗粒组成的碳膜;可以通过调节射频电压调整 P3 HT 薄膜的表层炭化程度,以优化复合膜的性能;等离子处理后,P3 HT 膜结晶度提高,复合膜光吸收增强。此 P3 HT/纳米碳层的双层异质复合膜