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采用反应磁控溅射法在k9玻璃基底上沉积ZrO2薄膜。用轮廓仪、椭圆偏振仪和分光光度计，分别测试薄膜的厚度、折射率、消光系数和透过率，研究了不同氧流量对薄膜沉积速率和光学特性的影响。结果表明：随着氧气流量增加到22-24mL／min（标准状态下）时，沉积速率从6．8nm／s下降到2．5nm／s，并趋于稳定；在入射波长630nm处，薄膜的折射率为1．95，消光系数小于10^-5；在可见及近红外波段，薄膜平均透过率高于80％。