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PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术，采用可变轴浸没透镜，对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在1mm^2子场的情况下，运用步进扫描曝光方式，在100nm临界尺寸下具有较高的产量，也EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有力竞争者。
PREVAIL—下一代电子束投影曝光技术
【摘 要】
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PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术，采用可变轴浸没透镜，对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在1mm^2子场的情况下，运用步进扫描曝光方式，在100nm临界尺寸下具有较高
【机 构】
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中国科学院微电子中心光掩模实验室
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2002年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目 (6 990 6 0 0 6 )
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