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PREVAIL—下一代电子束投影曝光技术
PREVAIL—下一代电子束投影曝光技术
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qyyqyy202
【摘 要】
:
PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术,采用可变轴浸没透镜,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在1mm^2子场的情况下,运用步进扫描曝光方式,在100nm临界尺寸下具有较高
【作 者】
:
王云翔
刘明
等
【机 构】
:
中国科学院微电子中心光掩模实验室
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
2002年2期
【关键词】
:
PREVAIL
电子束投影曝光技术
光学光刻技术
NGL
s:PREVAIL
E-beam projection lithography
【基金项目】
:
国家自然科学基金资助项目 (6 990 6 0 0 6 )
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PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术,采用可变轴浸没透镜,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在1mm^2子场的情况下,运用步进扫描曝光方式,在100nm临界尺寸下具有较高的产量,也EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有力竞争者。
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