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Si/SiGe腐蚀停止技术的研究及其在SiGe/Si HBT工艺中的应用
Si/SiGe腐蚀停止技术的研究及其在SiGe/Si HBT工艺中的应用
来源 :北京工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fengyun163
【摘 要】
:
对SiGe/Si腐蚀停止技术进行了大量的实验研究,分析了腐蚀的化学机理,并在一定的腐蚀液浓度和温度下,获得了Si和SiGe的腐蚀速率比大于30的结果。该技术极宜在SiGe/SiHBT制作中应用。
【作 者】
:
陈建新
袁颖
杜春霞
张时明
赵玉琴
沈光地
【机 构】
:
北京工业大学电子工程系北京市光电子技术实验室,北京工业大学化学与环境工程学系
【出 处】
:
北京工业大学学报
【发表日期】
:
1996年2期
【关键词】
:
硅
硅锗
半导体工艺
腐蚀停止技术
Si SiGeetching stop semiconductor technology
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对SiGe/Si腐蚀停止技术进行了大量的实验研究,分析了腐蚀的化学机理,并在一定的腐蚀液浓度和温度下,获得了Si和SiGe的腐蚀速率比大于30的结果。该技术极宜在SiGe/SiHBT制作中应用。
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