【摘 要】
:
低温衬底使器件在制膜过程中避免热伤害。研究得到强水冷衬底的射频反应溅射法制备a-SiO2薄膜的最佳工艺条件。所制得的薄膜具有好的致密度和抗腐蚀性。
【机 构】
:
武汉大学物理学系,山东大学物理学系
【基金项目】
:
国家自然科学基金,,教育部重点科学技术项目基金
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低温衬底使器件在制膜过程中避免热伤害。研究得到强水冷衬底的射频反应溅射法制备a-SiO2薄膜的最佳工艺条件。所制得的薄膜具有好的致密度和抗腐蚀性。
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