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期刊论文
相移掩模的制作
相移掩模的制作
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:z534921
【摘 要】
:
本文阐述相移掩模技术研究中,常用的几种主要相移掩模制作方法,重点介绍了无络PSM、Levenson交替型PSM、边级PSM、亚分辨辅助PSM以及激光直写制作PSM的方法。
【作 者】
:
冯伯儒
陈宝钦
【机 构】
:
中国科学院光电技术研究所,中国科学院微电子中心
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
1997年1期
【关键词】
:
光学曝光
相移掩模
掩模制造
optical microlithography
phase-shifting mask
mask process
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本文阐述相移掩模技术研究中,常用的几种主要相移掩模制作方法,重点介绍了无络PSM、Levenson交替型PSM、边级PSM、亚分辨辅助PSM以及激光直写制作PSM的方法。
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