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微电子技术正向深亚微米、纳米方向发展.而电子束掩模制造技光设备由于波长短,位置控制精度高,而具备制作精确图形的优势.电子束的......
该文重点介绍中国光掩模制造与光刻技术从萌芽年代直到进入亚微米、深亚微米及纳米级超微细加工技术年代的发展历程，中国光掩模制造......
Ｘ射线光刻目前被认为是替代光学光刻进入深亚微米制造领域的最有希望的几种技术之一，Ｘ射线光刻技术进入工业化生产的关键是需要解决光......
本文阐述相移掩模技术研究中，常用的几种主要相移掩模制作方法，重点介绍了无络ＰＳＭ、Ｌｅｖｅｎｓｏｎ交替型ＰＳＭ、边级ＰＳＭ、亚分辨辅助ＰＳＭ以及激光直写制作ＰＳＭ的方法。......
