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该文介绍了旋转磁控溅身和电弧离子镀技术的最新进展。论述了旋转圆柱磁控溅射靶Ｃ－Ｍａｇ、孪生磁控溅射靶Ｔｗｉｎ－Ｍａｇ和旋转磁控柱状弧的特性及其应用。该文还对ＬＯＷ－ｅ膜和ＩＴＯ膜的制备工艺和设备进行了分析研究，并指出今后发展方向。
真空镀膜技术的最新进展
【摘 要】
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该文介绍了旋转磁控溅身和电弧离子镀技术的最新进展。论述了旋转圆柱磁控溅射靶Ｃ－Ｍａｇ、孪生磁控溅射靶Ｔｗｉｎ－Ｍａｇ和旋转磁控柱状弧的特性及其应用。该文还对ＬＯＷ－ｅ膜和ＩＴＯ膜的制备工艺和设备进行了分
【机 构】
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真空泵厂
【出 处】
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全国薄膜学术讨论会
【发表日期】
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1999年10期
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