【摘 要】
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该文介绍了旋转磁控溅身和电弧离子镀技术的最新进展。论述了旋转圆柱磁控溅射靶C-Mag、孪生磁控溅射靶Twin-Mag和旋转磁控柱状弧的特性及其应用。该文还对LOW-e膜和ITO膜的制备工艺和设备进行了分
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该文介绍了旋转磁控溅身和电弧离子镀技术的最新进展。论述了旋转圆柱磁控溅射靶C-Mag、孪生磁控溅射靶Twin-Mag和旋转磁控柱状弧的特性及其应用。该文还对LOW-e膜和ITO膜的制备工艺和设备进行了分析研究,并指出今后发展方向。
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