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本实验采用简单物理气相沉积(PVD)的方法,直接蒸发Zn粉末,在ZnO(001)取向薄膜衬底上制备出整齐排列的ZnO纳米线阵列,与已有的报道不同,该方法不含任何催化剂或者添加剂.实验在水平管式炉中进行,采用Ar气(200sccm)作为保护气,反应温度750℃,反应时间90分钟.
PVD法在ZnO(001)薄膜上制备ZnO纳米线阵列
【摘 要】
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本实验采用简单物理气相沉积(PVD)的方法,直接蒸发Zn粉末,在ZnO(001)取向薄膜衬底上制备出整齐排列的ZnO纳米线阵列,与已有的报道不同,该方法不含任何催化剂或者添加剂.实验
【机 构】
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清华大学材料科学与工程系电子显微镜实验室
【出 处】
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电子显微学报
【发表日期】
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2005年4期
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