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采用反应磁控溅射加真空退火分别在玻璃和Si（100）基底上制备氧化钒薄膜，利用X射线衍射和原子力显微镜分析其物相和表面形貌。结果表明：氧气体积分数低于15％时，玻璃上薄膜为低价钒氧化物，Si（100）A2薄膜为V2O5（001）织构和V2O3（104）织构，高于20％时两基底上薄膜均为V2O5；玻璃上V2O5薄膜500℃下退火3h生成VO2，退火后薄膜粗糙度明显下降；Si（100）上V2O5薄膜500℃下退火2h生成V2O3（104）织构，退火后薄膜粗糙度变化不大。