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采用二次回归饱和D-最优设计进行基质培黄瓜施肥试验。以氮磷钾肥施用量为自变量,黄瓜产量、硝酸盐含量、维生素C为目标函数,设三因素四水平,探讨了不同施肥对日光温室基质栽培春茬黄瓜生长、产量和品质的影响。结果表明,应用二次回归饱和D-最优设计进行黄瓜施肥试验,获得黄瓜中农202氮磷钾肥的效应方程式为:y=11231.91+285.13X1+9.86X2+777.15X3-960X1X1-204.58X2X2+208.26X3X3+758.36X1X3+164.96X2X3。所建立的优化施肥数学模型达到显著水平