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采用二次回归饱和D-最优设计进行基质培黄瓜施肥试验。以氮磷钾肥施用量为自变量，黄瓜产量、硝酸盐含量、维生素C为目标函数，设三因素四水平，探讨了不同施肥对日光温室基质栽培春茬黄瓜生长、产量和品质的影响。结果表明，应用二次回归饱和D-最优设计进行黄瓜施肥试验，获得黄瓜中农202氮磷钾肥的效应方程式为：y=11231．91＋285．13X1＋9．86X2＋777．15X3-960X1X1-204．58X2X2＋208．26X3X3＋758．36X1X3＋164．96X2X3。所建立的优化施肥数学模型达到显著水平