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<正> 电子束作图装置(以下写为EB装置)约在二十年前就作为加工微细图形而公开发表了、虽然,在以后的时间里没有很快用于生产,但在约十年前它作为光掩模的作图装置就已实用化了,从而它被公认为半导体制造装置。
电子束作图装置
【摘 要】
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<正> 电子束作图装置(以下写为EB装置)约在二十年前就作为加工微细图形而公开发表了、虽然,在以后的时间里没有很快用于生产,但在约十年前它作为光掩模的作图装置就已实用化
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1990年1期
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