强流离子注入相关论文
本文分析了离子注入机中晶片电荷积累的原因及影响,讨论了几种中和方法,并利用电子中和技术原理,设计了电子淋浴器,实际应用于强流......
用ＭＥＶＶＡ离子源将Ｌａ离子注入到单晶硅中形成掺杂层，用ＸＲＤ、ＳＥＭ分析了掺杂层的物相和表面形貌。分析表明在强流离子注入后，掺杂层中有硅化物形成，且形......
对强流离子注入,为了产生预防晶片充电所需要的低能电子,普遍采用以固体靶或气体靶中发射二次电子的馈送枪技术。由于它在实用上有......
研究用MEVVA源注入在浅PN结上合成硅化钛和硅化镍,并用扩展电阻仪分析其电特性及对PN结特性的影响。研究发现,在As注入P-Si后形成......
