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本文利用分子吸收光谱法探讨了高氯酸和高氯酸镁干扰铟石墨炉原子吸收的机理,实验结果表明,其干扰均由于生成InCl分子而挥发损失的缘故,高氯酸的干扰主要发生在原子化过程中,而高氯酸镁的干扰则主要发生在灰化之后的升温过程中,基体改进剂钯和抗坏血酸的同时存在,能完全抑制InCl和MgCl分子的生成,从而能有效地消除其干扰。