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论述了实验设计技术与ＴＣＡＤ相结合用于半导体工艺和器件性能优化的新途径，它可以极大地减少开发和研制新工艺、新器件的时间和成本。
D优化的实验设计在IC工艺和器件优化中的应用
【摘 要】
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论述了实验设计技术与ＴＣＡＤ相结合用于半导体工艺和器件性能优化的新途径，它可以极大地减少开发和研制新工艺、新器件的时间和成本。
【机 构】
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北京大学微电子学研究所,英国爱丁堡大学电子工程系
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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1996年5期
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