【摘 要】
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用XPS,AES,XRD,SEM及显微硬度计分析和测试了不同成分的等离子体化学气相沉积(PCVD)Ti—N—C膜,并与PCVD一TiN膜比较。认为:Ti—N—C膜优异的耐磨性可归因于高显微硬度及致密
【机 构】
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青岛化工学院rrrrrrrrrn,青岛化工学院rrrrrrrrrn,青岛化工学院
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用XPS,AES,XRD,SEM及显微硬度计分析和测试了不同成分的等离子体化学气相沉积(PCVD)Ti—N—C膜,并与PCVD一TiN膜比较。认为:Ti—N—C膜优异的耐磨性可归因于高显微硬度及致密的结构。AES及XPS分析结果表明,Ti—N—C与TiN膜表面吸附的氧原子价态不同,其决定因素是膜晶格中是否有足够的碳原子存在。氧吸附态的不同可能导致不同的磨损失效方式。
The plasma-enhanced chemical vapor deposition (PCVD) Ti-N-C films with different compositions were analyzed and tested by XPS, AES, XRD, SEM and microhardness tester and compared with PCVD-TiN film. That: Ti-N-C film excellent wear resistance can be attributed to the high microhardness and compact structure. The results of AES and XPS show that the valences of oxygen atoms adsorbed on the surface of Ti-N-C and TiN films are different, and the decisive factor is whether there are enough carbon atoms in the crystal lattice of the film. Differences in oxygen adsorption states can lead to different modes of wear failure.
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