低温磁控溅射SnO2：Sb透明导电膜的结构与导电性能

来源 :太阳能学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：deiseng

【摘要】

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采用射频磁控溅射法在7059玻璃衬底上低温制备出锑掺杂的氧化锡(SnO2:Sb)透明导电膜,对薄膜的结构和电学性质进行了研究.制备薄膜为多晶膜,并且保持了纯二氧化锡的金红石结构

【作者】

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马瑾刘晓梅张士勇郝晓涛马洪磊

【机构】

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山东大学物理与微电子学院光电材料与器件研究所,山东大学计算机学院,长安大学基础部物理组

【出处】

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太阳能学报

【发表日期】

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2004年2期

【关键词】

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磁控溅射 SnO2:Sb薄膜结构和电学性质 Carrier concentrationElectric resistanceElectronic proper

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采用射频磁控溅射法在7059玻璃衬底上低温制备出锑掺杂的氧化锡(SnO2:Sb)透明导电膜,对薄膜的结构和电学性质进行了研究.制备薄膜为多晶膜,并且保持了纯二氧化锡的金红石结构,而且具有明显的(110)择优取向.最低电阻率为2×10-3Ω·cm,载流子浓度和迁移率分别为1.65×1020cm-3和19.0cm2·v-1·s-1.

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