用射频磁控溅射法在蓝宝石(0001)衬底上制备出锑掺杂的氧化锡(SnO2:sb)薄膜.对制备薄膜的结构和发光性质进行了研究.制备样品为多......

用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出SnO2:Sb薄膜,研究了不同掺杂和退火对薄膜结构的影响.制备薄膜是具有纯氧化锡四方金红石结构......

以SnCl4·5H2O和SbCl3为原料，采用喷雾热解法在玻璃基片上制备了掺锑二氧化锡（SnO2：Sb）透明导电薄膜。用X光电子能谱分析仪（XPS）、X......

用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出SnO2：Sb薄膜．制备样品为多晶薄膜，具有纯氧化锡的四方金红石结构和(110)择优取向，Sb离子以替位式......

采用射频磁控溅射法在7059玻璃衬底上低温制备出锑掺杂的氧化锡(SnO2:Sb)透明导电膜,对薄膜的结构和电学性质进行了研究.制备薄膜......

采用射频磁控溅射方法在石英玻璃衬底上制备了SnO2：Sb薄膜。所制备的薄膜为四方金红石结构的多晶薄膜。PL谱表明，样品在396、450、50......

采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出锑掺杂的氧化锡 (SnO2 :Sb)薄膜 .制备薄膜是具有纯氧化锡四方金红石结构的多晶膜薄 ,晶粒......

用喷雾热解法将掺杂锑的氯化亚锡溶液喷射到预先加热的玻璃管衬底上，制备了掺锑氧化锡透明导电薄膜．采用X射线衍射仪和扫描电镜分别......