【摘 要】
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磁控溅射具有沉积速率高、基片温升低两个显著特点,目前,在国内得到了较大发展,并已应用于生产,科研各个领域。本文介绍了由北京仪器厂生产的DM-450A型镀膜机改制成的平面磁
【机 构】
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浙江大学,浙江大学,浙江大学,浙江大学,
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磁控溅射具有沉积速率高、基片温升低两个显著特点,目前,在国内得到了较大发展,并已应用于生产,科研各个领域。本文介绍了由北京仪器厂生产的DM-450A型镀膜机改制成的平面磁控溅射台,并对其性能进行了较详细的测试。
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