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在此次研究中,针对TFT-LCD干法刻蚀影响TFT特性的程度进行了重点研究,通过优化刻蚀条件,使Photo-Iof得以降低,实现改善TFT-LCD闪烁不良的目标.根据试验结果表明,在优化干法刻蚀工艺条件的基础上,使得TFT特性得以改善,且闪烁情况变化显著.
干法刻蚀工艺对TFT-LCD Flicker改善的探讨
【摘 要】
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在此次研究中,针对TFT-LCD干法刻蚀影响TFT特性的程度进行了重点研究,通过优化刻蚀条件,使Photo-Iof得以降低,实现改善TFT-LCD闪烁不良的目标.根据试验结果表明,在优化干法刻
【机 构】
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210033 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 江苏 南京
【出 处】
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数字化用户
【发表日期】
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2019年52期
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