ASML展示一体化光刻解决方案助摩尔定律延续

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ASML集团公司(ASML Holding NV)在美国旧金山举行的SEMICON West展会上发布多项全新光刻设备,让芯片制造商能够继续缩小半导体器件尺寸。FlexRay(可编程照明技术)和BaseLiner(反馈式调控机制)为ASML一体化光刻技术(holistic lithography)的一部分,具有高稳定性,能够优化和稳定制造工艺。
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