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评论国内外化学气相沉积的金刚石膜制备技术，核化和生长，性质表征、异质外延生长及其应用等方面研究的最新进展和应用前景。
CVD金刚石膜研究进展和应用
【摘 要】
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评论国内外化学气相沉积的金刚石膜制备技术，核化和生长，性质表征、异质外延生长及其应用等方面研究的最新进展和应用前景。
【机 构】
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重庆大学应用物理系
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1999年A10期
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