【摘 要】
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通过磁控溅射方法在玻璃衬底上制备Cu2O薄膜,采用X射线衍射（XRD）、分光光度计、原子力显微镜（AFM）和X射线光电子能谱（XPS）等研究了氧气流量对Cu2O薄膜性能的影响。结果表明：氧气流量
【机 构】
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南京航空航天大学材料科学与技术学院
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通过磁控溅射方法在玻璃衬底上制备Cu2O薄膜,采用X射线衍射（XRD）、分光光度计、原子力显微镜（AFM）和X射线光电子能谱（XPS）等研究了氧气流量对Cu2O薄膜性能的影响。结果表明：氧气流量为4.2 sccm时,薄膜为单相的Cu2O,具有较高的结晶质量和可见光透过率,光学带隙为2.29 eV,薄膜的导电类型是p型且空穴浓度为2×10^16cm^-3。通过XPS能谱分析Cu 2p和O 1s结合能,确定了薄膜中Cu以＋1价存在。
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