Sematech召开论坛讨论下一代光刻技术 设备成本将达4000万美元

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据EETimes报道:Sematech正计划于2008年5月12~14日召开为期3天的光刻论坛,讨论32nm向22nm转变时该选择何种技术。Sematech表示,这次会议旨在汇集业界的观点,并希望能在下一代光刻技术方面达成一致。该会议将对外开放,预定在Lake George,New York举行。
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