【摘 要】
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通过正交法进行小槽试验和HullCell试验,研究了三价铬电镀工艺中的pH值、温度、搅拌、电流密度等工艺条件和参数对镀层的影响。在各不同镀液组成和工艺条件下,充分地分析了镀
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通过正交法进行小槽试验和HullCell试验,研究了三价铬电镀工艺中的pH值、温度、搅拌、电流密度等工艺条件和参数对镀层的影响。在各不同镀液组成和工艺条件下,充分地分析了镀层的表观形貌,确定了最佳镀液组成和工艺参数:采用了主盐和导电盐均为硫酸盐的全硫酸盐体系的三价铬镀铬;当pH=2~3、Jk=15~45 A/dm2、工作温度=25~45℃时,采取静镀的方法可以得到光亮、致密的合格镀层。
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